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    • XMD2000煙用香精濃縮液高剪切膠體磨

      煙用香精濃縮液高剪切膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    • XMD2000碳酸氫鈉注射液均質膠體磨

      碳酸氫鈉注射液均質膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    • XMD2000β環糊精高剪切均質乳化機

      β環糊精高剪切均質乳化機 定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    • XMD2000脫細胞真皮基質膠體磨

      脫細胞真皮基質膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    • XMD2000二氧化硅消光粉高速膠體磨

      二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    • XMD2000阿莫西林混懸液超高速膠體磨

      阿莫西林混懸液超高速膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    • XMD2000楓香脂蕓香浸膏膠體磨

      楓香脂蕓香浸膏膠體磨由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。

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    • XMD2000納米纖維素均質膠體磨

      納米纖維素均質膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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